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ITO靶材簡介

時間:2022-09-18瀏覽數(shù):1279

      氧化銦錫(英文全稱為Indium Tin Oxide,簡稱“ITO”),由氧化銦和氧化錫粉末按照一定比例混合后,經(jīng)過一系列的生產(chǎn)工藝加工成型,再高溫?zé)Y(jié)形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體材料。

      氧化銦錫作為一種n型半導(dǎo)體材料,具有高的導(dǎo)電率、優(yōu)異的可見光透過率、較強的機械硬度和良好的化學(xué)穩(wěn)定性,主要用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙、有機發(fā)光二極管、太陽能電池、抗靜電鍍膜、EMI屏蔽的透明傳導(dǎo)鍍、各種光學(xué)鍍膜等。

      ITO靶材是濺射靶材中的一種,主要通過磁控濺射將ITO靶材氣化,濺鍍到玻璃基板或柔性有機薄膜上,制造成ITO薄膜,后者為透明導(dǎo)電氧化物薄膜,厚度一般為30-200納米。

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