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靶材比重計-陶瓷金屬合金靶材致密度儀-KW-3000F

為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。

靶材在生產(chǎn)制造的過程中需要對其密度進(jìn)行，采用的方法是阿基米德原理，儀器自動計算出靶材密度g/cm3。目前生產(chǎn)的采用人工對靶材進(jìn)行升降，由于靶材重量大，操作不便，手動放置靶材到水中容易造成波動，不利于手動計算密度。因此需要一種專用密度儀進(jìn)行操作。因此解決這一問題就顯得十分必要。

技術(shù)參數(shù)：

型號：KW-3000F

稱重精度：0.01g

稱重量程：3000g（取樣重量3000g以內(nèi)，如需更大量程，可以定制）

密度精度：0.001g/cm3

靶材密度儀-KW-3000F

靶材比重計主要應(yīng)用于金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材

.金屬靶材

鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cu、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶、W等。

ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。

比重（specific gravity）是相對密度（relative density）的舊稱。相對密度定義為：某物質(zhì)的密度與參考物質(zhì)的密度之比。金屬靶材通常是合金靶材才會用到相對密度，相對密度高代表含量高。

用100滑模擬鋼彈和鎢合金彈撞擊鋼、鋁、銅、鈦、鉛、鎢6種金屬靶,實驗結(jié)果表明長桿穿甲彈的侵徹深度與金屬靶材料密度的0.36次冪成反比。建立了一個適合于長桿彈侵徹均質(zhì)金屬靶使用的關(guān)系式p/Dp=1.79(ρP/ρt)0.69(ρtV2/Yt)1/3 其中V是子彈的撞靶速度,ρp和ρt是彈材和靶材的密度,Yt是靶材的動態(tài)屈服強(qiáng)度,P為侵徹深度,Dp為彈徑。

密度越高，精密度越好，鍍膜過程中裂靶的概率會低點，建議靶材的密度和純度都要實時管控，一臺好用的檢測儀器很重要。